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                          |  | 光設計賞 |  |  |  
              | 光設計奨励賞 |  
              | 広範囲・高分解能・高精度イメージングエリプソメータの開発 |  
              | 受賞者 :金 蓮花1、上原 誠2 |  
              | 所属  :山梨大学1、株式会社目白672 |  
              |  左から上原氏、金氏、審査委員長の辰野氏
 
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              | 授賞理由 |  
              | 斜め入射で光を入れるエリプソメータで、平面を一括測定するためにシャインプルーフの条件を使うなど、既存の技術をうまく組み合わせ、理にかなった設計思想でエリプソメータの2次元計測を実現したことが高く評価されました。薄膜・表面の特性を非破壊・非接触で評価できる計測器の性能向上は意義深く、半導体産業などへの貢献につながると考えられ、光設計奨励賞を授与します。
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              | 概要 |  
              | エリプソメータは、半導体・材料・バイオなどの分野で、被検試料の光学特性や薄膜厚さの測定機器として使用されている。現在のエリプソメータのほとんどは点計測用である。つまり、一回の測定で、被検試料上の一ヶ所しか測定できない。本技術は、広範囲の被検試料の2次元情報を高分解能・高精度で一括測定するイメージングエリプソメータの開発に関するものである。従来の透過型レンズ系の代わり、試料面に対して光学系をチルトしてもSCHEIMPFLUG条件で像面をチルトすることより結像性能を維持する反射型OFFNERイメージング光学系を設計している。なお、光学素子に存在する2次元的製造誤差も補償している。 |  |